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發展方向

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      本所成立之目的乃在因應未來科技整合之發展趨勢,並結合光電工程、機械、電機、資訊與物理等跨學科之研究所,
重點在訓練具有光電科技與微奈米光機電科技等跨領域與跨學科之專業人才。
本所之研究發展重點包括:(1)光電影像顯示技術、(2)微奈米光機電技術。

光電影像顯示技術
尖端平面顯示技術:液晶平面顯示(LCD)、有機分子電激發光平面顯示(OLED)、高分子電激發光平面顯示(PLED)、
場發射光平面顯示(FED)、可撓式基板平面顯示器和其他前瞻顯示技術等。

有機及無機光電元件:白光OLED、無機半導體白光發光元件和半導體發光二極體等。

光學投射與成像系統:背光模組與元件和液晶投影顯示技術等。

半導體雷射技術:半導體雷射和半導體雷射光電調制性質等。

TFT製程技術:低溫多孔矽晶TFT製程、無機TFT製程和有機TFT製程等。

微奈米光機電技術
微奈米光機電元件與系統:生醫光機電元件與系統、生醫光電檢測、微奈米控制與感測和微奈米檢測等。

奈米光電:光子晶體、奈米顯微、奈米光電材料與元件和奈米資訊儲存等。

積體光學:積體光學元件與系統、光波導元件、光電調制器和DWDM元件等。

微奈米加工與製程:微奈米結構製作與檢測、光學微影和軟性微影等。


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